半導(dǎo)體照明網(wǎng)訊 東京大學(xué)生產(chǎn)技術(shù)研究所教授藤岡洋的研究室2014年6月23日宣布，開(kāi)發(fā)出了在玻璃基板上用濺射法形成GaN基LED的技術(shù)。相關(guān)論文已發(fā)表在學(xué)術(shù)雜志《ScientificReports》上。除了與現(xiàn)有LED相比可大幅降低制造成本之外，新技術(shù)還有可能實(shí)現(xiàn)用無(wú)機(jī)LED制作有機(jī)EL那樣的大面積發(fā)光元件。

　　藤岡教授的研究室在約2英寸（直徑約5cm）的玻璃基板上轉(zhuǎn)印了石墨烯多層膜，然后在石墨烯多層膜上用脈沖濺射法分別形成了AlN、n型GaN、由GaN與InGaN的多層構(gòu)造構(gòu)成的量子阱、p型GaN晶體。

　　藤岡表示，很早以前就開(kāi)始開(kāi)發(fā)利用濺射法制作LED的技術(shù)，“還沒(méi)有發(fā)布過(guò)這些技術(shù)的詳細(xì)內(nèi)容，只是在累積經(jīng)驗(yàn)”。

　　另外，藤岡研究室還在2008年開(kāi)發(fā)出了在石墨片材上用“脈沖激勵(lì)沉積法（PXD）”形成GaN晶體的技術(shù)。

　　此次在可稱得上是最薄石墨片材的石墨烯片材上用濺射法形成了GaN晶體，并確認(rèn)可實(shí)際發(fā)光。據(jù)介紹，分別制作了以紅色（R）、綠色（G）、藍(lán)色（B）三原色發(fā)光的LED。

　　目前還無(wú)法檢測(cè)白色發(fā)光的發(fā)光效率，以及單色狀態(tài)下的外部量子效率，正在對(duì)極低溫條件下的內(nèi)部量子效率進(jìn)行評(píng)估。藤岡教授表示，“與藍(lán)寶石基板上制作的LED相比，內(nèi)部量子效率要低好幾成”。今后的課題是如何將內(nèi)部量子效率提高至與現(xiàn)有LED相當(dāng)?shù)乃�平�?/p> jQuery('.').html(); if('0' > 0){ var userid = ''; var page = '';